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等离子体监测控制仪PlasCalc

PlasCalc等离子体监测控制仪测量等离子体发射200nm-1100nm,只需3msPlasCalc等离子体监测控制仪,实现200nm-1100nm波段内的等离子体测量,通过高级过程控制系统及精密数据存取算法,只需3m就可以获得测量结果。特点光学分辨率1.0nm(FWHM)光谱范围200-1100nm快速的建模及存储实验方法Recipe编辑器Recipe编辑器有助于简单快捷的配置、构建及存储实验

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PlasCalc 等离子体监测控制仪
测量等离子体发射200nm-1100nm,只需3ms

PlasCalc 等离子体监测控制仪,实现200nm-1100nm波段内的等离子体测量,通过高级过程控制系统及精密数据存取算法,只需3m就可以获得测量结果。

特点

  • 光学分辨率1.0nm(FWHM)
  • 光谱范围 200-1100nm
  • 快速的建模及存储实验方法

Recipe编辑器

Recipe编辑器有助于简单快捷的配置、构建及存储实验方法。对一些困难的等离子体工序诸如膜沉积测量、等离子体蚀刻监测、表面洁度监测、等离子体室控制及异常污染、排放监测等,能够快速简单的构建模块过程控制。

多种工具用于等离子体诊断

PlasCalc配置的操作软件,集成的程式编辑器能够容易实现多种数学算法功能。可选的波长发生器(可以单独购买)用于类型确认,而波长编辑器可以用于优化信噪比。双窗口界面用于显示实际光谱及所有过程控制信息。

PlasCalc 配置说明

 

光谱范围:

200-1100 nm

光学分辨率:

1.0 nm (FWHM)

D/A 转换:

14 bit

数字I/O:

8 x TTL

模拟输出:

4 x [0-10V]

接口:

USB 1.1

功耗:

12 VDC @ 1.25 A

电源:

90-240 VAC 50/60 Hz

尺寸:

257 mm x 152 mm x 263 mm

重量:

5 kg

 

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